Генеральный директор Intel Лип-Бу Тан (Lip-Bu Tan) заявил, что Китай в области производства микросхем сегодня не так сильно отстаёт от США. Тан отметил, что Китай не сильно отстаёт от США, несмотря на американские санкции, ограничивающие доступ китайских компаний к передовым установкам EUV-литографии.
Отвечая на вопрос о том, сможет ли Китай догнать США в производстве передовых чипов в ближайшие пять-десять лет, глава Intel отметил, что у компаний из Китая и США разные сильные и слабые стороны. Кратко оценивая положение Китая, Тан сказал:
Сегодня, я думаю, он не так уж далеко позади.
— Лип-Бу Тан, генеральный директор IntelEUV-литограф
По мнению Тана, в конечном счёте успех компаний будет зависеть от того, насколько их продукты отвечают потребностям клиентов. Глава Intel также говорил о планах компании развивать собственное контрактное производство, способное конкурировать с TSMC. Он подчеркнул, что для этого нужны время и последовательная работа.
Тем временем китайская компания Landau представила прототип источника EUV-излучения. По заявленным данным, он способен работать до 100 часов при мощности 15 Вт. К слову, в 2027 году более 80% чипов памяти могут зарезервировать для ИИ.
Смогут ли китайские компании сократить отставание в производстве передовых чипов, несмотря на ограничения доступа к EUV-установкам?